電鍍專用活性炭主要用于鍍鎳、氫化鍍銅、鍍銀、及銅錫合金、HEDP鍍銅、鍍烙等金屬精加工。產品吸附效果好，因而使鍍層無脆性并防止鍍層發花現象產生。

　　電鍍專用活性炭技術指標：

　　電鍍專用活性炭應用領域：

　　電鍍專用活性炭主要適用于電鍍廠電鍍液雜質的去除及電鍍廢水的電鍍專用炭，對于電鍍液 的提純、除雜是提高鍍件產品質量的重要手段之一，它能使鍍層均勻、結晶細致、孔隙率小，結合牢固。電鍍專用活性炭在電鍍槽里，將配制好的電鍍液加以攪拌以后，放入電鍍用活性炭素，再繼續攪拌約半小時后，既可使之慢慢沉淀，它的提純、除雜工序就完成了。

　　電鍍專用活性炭使用方法：

　　在電鍍槽里，將配制好的電鍍液加以攪拌以后，放入電鍍專用活性炭，再繼續攪拌約半小時后，既可使之慢慢沉淀。

　　電鍍專用活性炭凈化鍍液注意事項：

　　(1)選用適合的活性炭產品。市場上出售的活性炭有顆粒狀和粉末狀兩類，使用顆粒狀活性炭過濾較方便，但處理效果遠不及粉末狀活性炭，其原因是粉末狀比顆粒狀的比表面積要大得多，使用時應根據鍍液污染程度來選擇。

　　(2)活性炭中應不含對鍍液有害的雜質離子。目前，制造活性炭的原料主要是木、煤和硬殼堅果類(如椰子)的果殼。實踐證明:在鍍液凈化中，以硬果殼類為原料制造的活性炭優于用煤為原料制造的活性炭產品。劣質的活性炭常含較多的鋅等雜質，不宜使用。如用含鋅雜質的活性炭用在鍍鎳液凈化處理中，則會造成更惡劣的污染結果(此類事例并不鮮見)。

　　(3)用量要充分。對有機雜質污染程度不同的鍍液，應采取適當的投入量，一般為2～5g/L，如用量不足，則處理效果欠佳。也可用小工藝試驗槽或赫爾槽通過小試確定活性炭的用量。

　　(4)被處理鍍液的θ和pH要適當。多數鍍液采用θ為55～70℃、pH為5～6條件下處理效果較好。在處理全過程中θ和pH應保持穩定。

　　(5)攪拌要充分、均勻。采用循環過濾和壓縮空氣進行間歇強力攪拌為宜，如采用人力操作攪拌，應不間斷地在鍍槽中各處進行，不可留有死角。t攪拌一般應在2～4h。

　　(6)靜置時間。吸附過程完成后，應將鍍液靜置一段時間再進行過濾，t靜止為6～12h;充分沉淀后，過濾2～3次，直至鍍液中無殘留粉狀活性炭，鍍液呈本體顏色(無炭黑色)為止。

　　(7)防止脫附。采用活性炭連續循環過濾的電鍍工藝，活性炭吸附飽和時，應及時清理更換濾芯中的活性炭，防止發生脫附，雜質重新污染鍍液。